對于準備報考2020年浙江自考專升本考試的考生們來說，2019年即將迎來尾聲，2020年的浙江自考報名工作也即將開始。為了幫助各位考生們更好的進行復習備考工作，小編整理了2020年浙江自考互聯(lián)網(wǎng)數(shù)據(jù)庫常考知識點(1)和各位考生們進行分享。

　　2019年自考互聯(lián)網(wǎng)數(shù)據(jù)庫?？贾R點：數(shù)據(jù)倉庫的基本操作

　　(1)基本聚集函數(shù)：由于聚集函數(shù)的計算很費時間，在數(shù)據(jù)倉庫中常常把這些計算結果當作實視圖保存起來，一次計算可供多次使用。SQL提供五種聚集函數(shù)：SUM,COUNT,AVG,MAX,MIN.

　　(2)立方體操作：事實表是個多維表，每個元組可用多維空間的一個點或單元表示，數(shù)據(jù)立方體可以推廣到任意維，設維數(shù)為k，則k維超立方體可表示2個實視圖。在此立方體的基礎上，可進行切片，切塊操作，即以某一個維度為標準，對立方體進行切割的操作。

　　(3)上卷和下探操作：在計算聚集函數(shù)時，分組的粒度有粗細之分。由細粒度分組的聚集函數(shù)可以推算出與其相關的粗粒度分組的聚集函數(shù)反之則不可行。上卷操作就是由細粒度分組的聚集函數(shù)推算出粗粒度分組的過程。下探操作是上卷操作的逆操作，即通過細化維的粒度，查詢較詳細的數(shù)據(jù)。下探操作與上卷操作不同，在上卷時，可以由細粒度的實視圖推導出粗粒度的實視圖，即不但可以向上查詢，而且可以向上生成，由于從粗粒度實視圖推導不出細粒度視圖，不能通過下探操作由粗到細地生成實視圖。如果這些細粒度的實視圖已經(jīng)生成，可以通過下探操作向下查詢。

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